La gravure ionique réactive est un type de technologie utilisée en microfabrication pour éliminer les substances des plaquettes. Les plaquettes sont de petites bandes semi-conductrices utilisées dans la création de microdispositifs, et la technologie de gravure ionique réactive garantit qu’elles restent exemptes de matériaux qui pourraient avoir un impact négatif sur leur efficacité. Les procédures de microfabrication sont effectuées avec des dispositifs spécialement conçus qui identifient la substance à retirer sans sacrifier l’intégrité de la plaquette.
Le dispositif de gravure ionique réactif le plus courant est constitué d’un compartiment sous vide en forme de cylindre avec un support isolé pour la plaquette fixé à la partie inférieure de la chambre. Il y a de petits trous dans le haut du récipient qui laissent entrer le gaz. Différents types de gaz sont utilisés, en fonction des exigences individuelles d’une plaquette particulière.
Le plasma à couplage inductif est un autre mode de cette technologie. Avec cet appareil, le plasma est fabriqué par un champ magnétique hautement spécialisé. Il n’est pas rare d’atteindre des niveaux élevés de concentration plasmatique avec cette méthode.
Le plasma de gravure ionique réactive est un état de la matière chimiquement réactif et créé par le champ électromagnétique radiofréquence (RF) plus standard. Les ions dans le plasma ont une quantité d’énergie inhabituellement élevée. Ces ions réagissent aux débris sur une plaquette et travaillent pour éliminer les défauts à sa surface.
Le processus chimique impliqué dans la gravure ionique réactive est un processus à multiples facettes. Tout d’abord, un champ électromagnétique substantiel est envoyé à la chambre de la plaquette. Le champ oscille alors, ce qui ionise les molécules de gaz dans la cuve et enlève leurs électrons. Il en résulte la création du plasma.
La gravure ionique réactive est un type d’une catégorie plus large d’élimination de microfabrication appelée gravure sèche. Il n’utilise aucun liquide dans le processus d’élimination, contrairement à la gravure humide, qui utilise divers acides et produits chimiques pour atteindre le même objectif. Étant donné que la gravure humide provoque une sous-dépouille de la plaquette, ainsi que des quantités importantes de déchets toxiques, la gravure sèche devient une méthode plus populaire d’élimination chimique des plaquettes.
L’un des inconvénients majeurs de la gravure ionique réactive est son coût. Comparé aux techniques de gravure humide, il est beaucoup plus coûteux en raison de l’équipement spécialisé nécessaire. Cependant, les processus de gravure à sec sont en général bien plus efficaces pour atteindre les zones les plus délicates d’une plaquette. Il est important de se rappeler, cependant, que certains travaux ne nécessitent pas les moindres détails fournis par cette forme de gravure, et les procédures de gravure humide peuvent accomplir la tâche tout aussi efficacement.