Un photomasque est une plaque opaque utilisée dans les procédés de lithographie. Des ouvertures ou des trous dans la surface opaque sont disposés pour permettre à la lumière de passer à travers, ce qui transfère le motif du photomasque sur un autre matériau, tel que le papier. Les photomasques sont couramment utilisés dans la fabrication de semi-conducteurs, où ils transfèrent avec précision des images et des dispositions de circuits intégrés sur une carte de circuit imprimé. Ce processus est connu sous le nom de photolithographie.
Les photomasques jouent un rôle extrêmement important dans le développement des technologies de pointe dans notre société. La technologie moderne exige des composants plus petits, qui permettent l’existence de dispositifs tels que de très petits ordinateurs de poche et d’autres technologies à petite échelle. Sans masques photographiques ou lithographie, les dispositions des circuits et des puces au sein de ces dispositifs ne pourraient pas être transmises avec précision.
La conception d’un photomasque est déterminée par les fabricants de puces, dont les détails exacts sont décrits à travers une grande variété de langages et de supports. En raison des spécifications de conception uniques de chaque fabricant, les entreprises qui produisent des photomasques doivent avoir une compréhension approfondie de la conception. L’une des parties les plus importantes de la production de photomasques est le masque lui-même. Dans la plupart des cas, le masque est fabriqué à partir d’un chrome de haute qualité, en raison de sa précision et de son faible taux de défaut.
Les photomasques jouent un rôle essentiel dans la production de semi-conducteurs, ce qui nécessite des procédures lithographiques. Des outils lithographiques modernes équipés de lentilles à grande ouverture sont utilisés pour transmettre la lumière à travers le photomasque. La lumière projetée par ces dispositifs brille à travers le motif à l’intérieur du photomasque, qui est projeté sur une plaquette de silicium. La plaquette est recouverte d’une résine photosensible, qui est un matériau sensible à la lumière. Un photoresist négatif est alors employé pour enlever la partie masquée du matériau ; pour inverser le processus, une résine photosensible positive est utilisée.
Chaque couche d’une puce nécessite un photomasque unique. La plupart des semi-conducteurs ont au moins 30 couches, ce qui nécessite au moins 30 photomasques uniques pour chaque semi-conducteur. Les photomasques, cependant, sont bien plus qu’un simple moyen de tracer un motif sur une puce. En effet, les dispositions des circuits sont très précises et leurs motifs doivent être transmis aussi précisément que possible. La lithographie permet une transmission de conception extrêmement précise.
Les photomasques aident à la miniaturisation des puces informatiques. En effet, les puces plus petites nécessitent des images très précises de leur disposition générale, ce qui est presque impossible sans un processus lithographique. Sans le photomasque, les petits ordinateurs de poche seraient presque impossibles, car leurs petits circuits et puces nécessitent un agencement précis.